蒸気洗浄技術は写真製版及びエッチング工程後のレジスト剥離・ポリマー除去から始まりました。
洗浄能力に加え低コスト・クリーン・低ダメージ、そして、環境に優しい洗浄を目指しています。
そして今、この技術を半導体以外の用途にも広げています。

●　蒸気剥離装置
薬液を使わず、上記を使用したレジスト、ポリマーの剥離装置
●　ナノテクノロジー時代の要求に応えるダメージレス、クリーンプロセス。
●　薬液を使わないため、コストを大幅に削減
●　工程数を削減し、枚葉式校正でTATを短縮
●　時代の要求にあった環境に優しいプロセス